10月15日，“中國光谷”經過微X公眾號發布信息叫作，武漢太紫微光電科技有限機構（以下簡叫作“太紫微機構”）推出的T150 A光刻膠制品，已經過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。

據介紹，太紫微機構的這款光刻膠制品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于被業內叫作之為“妖膠”的國外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，經過驗證發掘T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。

眾所周知，光刻膠是半導體芯片制造過程中所必須的關鍵材料。因為日前光刻機揭發光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、 G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包含 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對應于各揭發波長的光刻膠亦應運而生，對應分別為，g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

從市場占有率來看，全世界光刻膠市場重點被日本和美國廠商占據。按照 TOK 和 Fujifilm 2020年的數據表示：

g/i ：東京應化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%，住友化學占比 15.7%；

KrF：東京應化占比 31.4%，信越化學占比 21.9%，合成橡膠占比 20.9%，陶氏杜邦占比 10.9%；

ArF：合成橡膠（JSR）占比24.9%，信越化學占比 21.8%，住友化學占比 16.8%，東京應化占比15.8%；

EUV：東京應化占比51.8%，另一合成橡膠（JSR）亦有不小的份額。

雖然近年來，隨著國產半導體制造業務發展，國產光刻膠廠商亦取得了有些突破，但是在中高端光刻膠市場仍是相對較弱。詳細來講，低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠亦是近兩年才有所突破，例如彤程新材、南大光電的ArF光刻膠都已有對外供貨。至于更高端的EUV光刻膠，因為美國的阻撓，國內日前沒法進口EUV光刻機，因此呢國產EUV光刻膠的研發自然亦無從談起。

資料表示，太紫微機構成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創立。團隊安身于關鍵光刻膠底層技術開發，在電子化學品行業深耕二十余載。

企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示：“以原材料的研發為起點，最后得到擁有自主知識產權的配方技術，這只是個起始，咱們團隊還會發展一系列應用于區別場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內關聯產業帶來更加多驚喜。”

△太紫微核心開發團隊成員（前排左一為朱明強教授）

太紫微機構致力于半導體專用高端電子化學品材料的研發，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同期為材料的分析與驗證供給最全面的手段。

“無論是從國內半導體產業崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規律展望將來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻行業還會有非常多新技術、新企業破繭成蝶，但持有科技創新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問暗示。

編輯：芯智訊-浪客劍